濕電咨詢服務: 陶經理18332815001 張經理18633235200
前言
本標準為全文強制。
本標準規定了電子工業企業或生產設施的大氣污染物排放限值、監測和監控要求,以及標準實施與監督等相關規定。
本標準依據GB/T1.1-2009給出的規則起草。
本標準由北京市環境保護局提出并歸口。
本標準由北京市人民政府于201年x月x日批準。
本標準由北京市環境保護局組織實施。
本標準主要起草單位:北京市環境保護科學研究院。
本標準主要起草人:李國昊、聶磊、邵霞、高喜超、劉曉宇、李樹琰、李宗澤。
引言
為貫徹《中華人民共和國環境保護法》、《中華人民共和國大氣污染防治法》、《大氣污染防治行動計劃》和《北京市大氣污染防治條例》,打贏藍天保衛戰,控制電子工業的大氣污染物排放,引導電子工業生產工藝和大氣污染控制技術的發展方向,改善北京市大氣環境質量,制定本標準。
電子工業大氣污染物排放標準
1、范圍
本標準規定了電子工業企業或生產設施的大氣污染物排放限值、監測和監控要求,以及標準實施與監督等相關規定。 本標準適用于電子專用材料、電子元件、印制電路板、半導體器件、顯示器件及光電子器件、電子終端產品等六類電子工業企業或生產設施的大氣污染物排放管理,以及這六類電子工業建設項目的環境影響評價、環境保護設施設計、竣工環境保護驗收及其投產后的大氣污染物排放管理。其他類別電子工業企業或生產設施的大氣污染物排放管理,參照本標準執行。
2、規范性引用文件
本標準內容引用了下列文件或其中的條款。凡是注明日期的引用文件,僅所注日期的版本適用于本文件。凡是不注明日期的引用文件,其*新版本(包括所有的修改單)適用于本文件。 GB/T14668空氣質量氨的測定納氏試劑比色法 GB/T15432環境空氣總懸浮顆粒物的測定重量法 GB/T16157固定污染源排氣中顆粒物測定與氣態污染物采樣方法 HJ38固定污染源廢氣總烴、甲烷和非甲烷總烴的測定氣相色譜法 HJ480環境空氣氟化物的測定濾膜采樣氟離子選擇電極法 HJ481環境空氣氟化物的測定石灰濾紙采樣氟離子選擇電極法 HJ533環境空氣和廢氣氨的測定納氏試劑分光光度法 HJ534環境空氣氨的測定次氯酸鈉-水楊酸分光光度法 HJ538固定污染源廢氣鉛的測定火焰原子吸收分光光度法(暫行) HJ539環境空氣鉛的測定石墨爐原子吸收分光光度法(暫行) HJ544固定污染源廢氣硫酸霧的測定離子色譜法(暫行) HJ547固定污染源廢氣氯氣的測定碘量法(暫行) HJ548固定污染源廢氣氯化氫的測定硝酸銀容量法(暫行) HJ549環境空氣和廢氣氯化氫的測定離子色譜法(暫行) HJ583環境空氣苯系物的測定固體吸附/熱脫附-氣相色譜法 HJ584環境空氣苯系物的測定活性炭吸附/二硫化碳解吸-氣相色譜法 HJ629固定污染源廢氣二氧化硫的測定非分散紅外吸收法 HJ644環境空氣揮發性有機物的測定吸附管采樣熱脫附/氣相色譜-質譜法 HJ657空氣和廢氣顆粒物中鉛等金屬元素的測定電感耦合等離子體質譜法 HJ685固定污染源廢氣鉛的測定火焰原子吸收分光光度法 HJ692固定污染源廢氣氮氧化物的測定非分散紅外吸收法 HJ693固定污染源廢氣氮氧化物的測定定電位電解法 HJ732固定污染源廢氣揮發性有機物的采樣氣袋法 HJ733敞開液面排放的揮發性有機物檢測技術導則 HJ734固定污染源廢氣揮發性有機物的測定固相吸附-熱脫附/氣相色譜-質譜法 HJ759環境空氣揮發性有機物的測定罐采樣/氣相色譜-質譜法 HJ/T28固定污染源排氣中氰化氫的測定異煙酸-吡唑啉酮分光光度法 HJ/T55大氣污染物無組織排放監測技術導則 HJ/T56固定污染源排氣中二氧化硫的測定碘量法 HJ/T57固定污染源排氣中二氧化硫的測定定電位電解法 HJ/T67大氣固定污染源氟化物的測定離子選擇電極法 HJ/T397固定源廢氣監測技術規范 DB11/1195固定污染源監測點位設置技術規范 DB11/T1367固定污染源廢氣甲烷/總烴/非甲烷總烴的測定便攜式氫火焰離子化檢測器法 DB11/T1484固定污染源廢氣揮發性有機物監測技術規范
3、術語和定義
下列術語和定義適用于本標準。
3.1電子專用材料specialelectronicmaterials 在半導體集成電路、各種電子元器件(包括有源及無源元器件、激光器件、光通訊器件、發光二極管器件、液晶顯示器件等電子基礎產品)制造中所采用的特殊材料。本標準中電子專用材料涵蓋的產品范圍包括半導體材料、覆銅板、電子銅箔、光電子材料、壓電晶體材料、電子專用精細化工與高分子材料等,但不包括真空電子材料、磁性材料、電子焊接材料和電子陶瓷材料。具體產品范圍見附錄A。
3.2電子元件electricalunit 電子電路中具有某種獨立功能的單元,可對電路中電壓和電流進行控制、變換和傳輸等。一般包括:電阻器、電容器、電子變壓器、電感器、壓電晶體、電子敏感元器件與傳感器、電接插元件、控制繼電器、微特電機與組件、電聲器件等產品。
3.3印制電路板printedcircuitboard(PCB) 在絕緣基材上,按預定設計形成印制元件、印制線路或兩者結合的導電圖形的印制電路或印制線路成品板。印制電路板包括剛性板與撓性板,它們又有單面印制電路板、雙面印制電路板、多層印制電路板,以及剛撓結合印制電路板和高密度互連印制電路板等。高密度互連印制電路板,簡稱HDI板。
3.4半導體器件semiconductordevice 利用半導體材料的特殊電特性制造,以實現特定功能的電子器件。包括分立器件和集成電路兩大類產品。
3.5光電子器件photoelectroncomponent 利用半導體光-電子(或電-光子)轉換效應制成的各種功能器件。如半導體光電器件中的光電轉換器、光電探測器等;激光器件中的氣體激光器件、半導體激光器件、固體激光器件、靜電感應器件等;光通信電路及其他器件;半導體照明器件等。
3.6顯示器件displaydevice 基于電子手段呈現信息供視覺感受的器件。包括薄膜晶體管液晶顯示器件(TN/STN-LCD、TFT-LCD)、場發射顯示器件(FED)、真空熒光顯示器件(VFD)、有機發光二極管顯示器件(OLED)、等離子顯示器件(PDP)、發光二極管顯示器件(LED)、曲面顯示器件以及柔性顯示器件等。
3.7電子終端產品electronterminalsproducts 以采用印制電路板(PCB)組裝工藝技術為基礎裝配的具有獨立應用功能的電子信息產品。如通信設備、雷達設備、廣播電視設備、電子計算機、視聽設備、電子測量儀器等。
3.8揮發性有機物volatileorganiccompounds(VOCs) 指參與大氣光化學反應的有機化合物,或者根據有關規定確定的有機化合物。 在表征VOCs總體排放情況時,根據行業特征和環境管理要求,可采用總揮發性有機物(以TVOC表示)、非甲烷總烴(以NMHC表示)作為污染物控制項目。
3.9企業邊界enterpriseboundary 電子工業企業或生產設施的法定邊界。若無法定邊界,則指企業或生產設施的實際占地邊界。
3.10密閉排氣系統closedventsystem 將工藝設備或車間排出或逸散出的大氣污染物,捕集并輸送至污染控制設備或排放管道,使輸送的氣體不直接與大氣接觸的系統。
3.11揮發性有機物治理設施treatmentfacilityforVOCs 處理揮發性有機物的燃燒裝置、吸收裝置、吸附裝置、冷凝裝置、生物處理設施或其它有效的污染控制設施。
3.12現有污染源Existingpollutionsource 指本標準實施之日前,已建成投產或環境影響評價文件已通過審批的工業企業和生產設施。
3.13新建污染源Newpollutionsource 指本標準實施之日起,環境影響評價文件通過審批的新建、改建和擴建的建設項目。
4、大氣污染物控制要求
4.1時段劃分 4.1.1現有污染源自本標準實施之日起至2019年12月31日止,執行第Ⅰ時段的排放限值;自2020年1月1日起執行第Ⅱ時段規定的限值。 4.1.2新建污染源自本標準實施之日起執行第Ⅱ時段規定的限值。 4.1.3工藝措施和管理要求自本標準實施之日起執行。
4.2排氣筒排放濃度限值 4.2.1電子工業生產過程中,設備或車間排氣筒排放大氣污染物濃度執行表1規定的限值。
4.2.2廢氣焚燒設施應對排放煙氣中的二氧化硫、氮氧化物和二噁英類進行監測,并達到表2規定的要求。其他大氣污染物排放還應滿足表1的控制要求。
4.2.3對進入VOCs燃燒(焚燒、氧化)裝置的廢氣需要補充氧氣(空氣)進行燃燒、氧化反應(燃料助燃需要補充空氣的情況除外)時,排氣筒中實測大氣污染物排放濃度應按公式(1)換算為基準含氧量為3%的大氣污染物基準排放濃度,并與排放限值比較判定排放是否達標;如進入VOCs燃燒(焚燒、氧化)裝置的廢氣中含氧量可滿足自身燃燒、氧化反應需要,或者燃料助燃需要補充空氣時,按排氣筒中實測大氣污染物濃度判定排放是否達標,此時裝置出口煙氣含氧量不應高于裝置進口廢氣含氧量。
式中: ——大氣污染物基準排放濃度,mg/m3; ——干煙氣基準含氧量,%,取值為3; ——實測的干煙氣含氧量,%; ——實測大氣污染物排放濃度,mg/m3。
4.3無組織排放控制要求 4.3.1電子工業生產過程中,企業邊界大氣污染物濃度執行表3規定的限值。
4.4排氣筒高度要求 排氣筒高度應按環境影響評價要求確定,且應不低于15m。排氣筒排放氯氣、氰化氫兩種污染物中任一種或一種以上時,其高度不得低于25m。
4.5工藝措施和管理要求 4.5.1產生大氣污染物的生產工藝和裝置需設立局部或整體氣體收集系統和凈化處理裝置,達標排放。 4.5.2當執行不同排放控制要求的廢氣合并排氣筒排放,且可選擇的監控位置只能對混合后的廢氣進行監測時,應執行各排放控制要求中*嚴格的規定。 4.5.3其他工藝措施和管理要求見附錄A。
5、監測
5.1企業監測要求 5.1.1企業應按照有關法律法規要求,建立企業監測制度,制定監測方案,對污染物排放狀況及其對周邊環境質量的影響開展自行檢測,保存原始監測記錄。
5.2排氣筒監測 5.2.1按DB11/1195的規定設置廢氣采樣口和采樣平臺,并滿足GB/T16157、HJ/T397和DB11/T1484規定的采樣條件。 5.2.2排氣筒廢氣的采樣監測應按照GB/T16157、HJ/T397和HJ732的規定執行。 5.2.3排污企業安裝污染物排放自動監控設備的要求,按《北京市固定污染源自動監控管理辦法》、HJ/T75中相關要求及其他相關法律法規執行。
5.3無組織排放監測 5.3.1廠界大氣污染物無組織排放監測應按HJ/T55的規定執行。 5.3.2無組織排放監控點位污染物濃度應以任何連續1小時的采樣獲得平均值、或在任何1小時內以等時間間隔采集3個以上樣品,計算平均值。 5.3.3對于設備與管線組件和敞開液面,逸散排放的VOCs監測采樣和測定方法按HJ733的規定執行,采用氫火焰離子化檢測儀(以甲烷或丙烷為校正氣體,以碳計)監測。
5.4大氣污染物濃度測定方法 大氣污染物濃度的分析測定應按照表4規定的方法執行。
6、監測工況要求
6.1對于建設項目環境保護設施竣工驗收監測或限期治理后的監測,采樣期間的工況不應低于設計工況的75%。對于監督性監測,不受工況和生產負荷限制。 6.2生產設施應采用合理的通風措施,不應稀釋排放。在國家未規定單位產品基準排氣量之前,暫以實測濃度作為判定是否達標的依據。
7、監督與實施
7.1本標準由市和區環境保護主管部門統一監督實施。 7.2在任何情況下,電子工業企業均應遵守本標準規定的污染物排放要求,采取必要措施保證污染防治設施正常運行。各級環保部門在對企業進行監督性檢查時,以現場即時采樣或監測的結果作為判定排污行為是否符合排放標準以及實施相關環境保護管理措施的依據。
附錄A(規范性附錄) 工藝措施和管理要求
A.1VOCs物料的儲存、轉移和輸送 A.1.1VOCs物料應儲存于密閉儲罐或密閉容器中。盛裝VOCs物料的容器應存放于儲存室內,或存放于設置有雨棚的專用場地。 A.1.2VOCs物料采用密閉管道輸送。采用非管道輸送方式轉移VOCs物料時,應采用密閉容器。 A.1.3盛裝VOCs物料的容器在非取用狀態時應加蓋保持密閉。
A.2含VOCs產品的使用過程控制 A.2.1含VOCs產品的使用過程應密閉設備,或在密閉空間內進行,廢氣排至VOCs廢氣收集處理系統。不能密閉的,應采取局部氣體收集處理措施。含VOCs產品的使用過程包括但不局限于以下作業: a)有機載體制備、溶劑復配、配膠等; b)上(點)膠、涂漆、噴涂、涂覆、印刷等; c)光刻、顯影、刻蝕、擴散等; d)研磨、清洗、烘干等。 A.2.2企業應記錄含VOCs原料、輔料和產品的名稱、使用量、回收量、廢棄量、去向以及VOCs含量。記錄保存期限不得少于三年。
A.3設備與管線組件泄漏 A.3.1應對泵、壓縮機、閥門、法蘭及其他連接件等密封點進行泄漏檢測,對泄漏檢測值(扣除環境本底值后的凈值)大于等于2000µmol/mol的泄漏點以及目視滴液的滴漏點進行標識并在15日內修復。 A.3.2企業應建立泄漏檢測與修復制度,每季度對泵、壓縮機、閥門、法蘭及其他連接件等動靜密封點進行泄漏檢測,建立臺帳,記錄檢測時間、檢測儀器讀數、修復時間、修復后檢測儀器讀數等信息。 A.3.3采用無泄漏型式的設備或管線組件,免于泄漏檢測。
A.4揮發性有機液體儲罐與裝載設施 A.4.1對于儲存物料的真實蒸氣壓大于等于5.2kPa、容積大于等于75m3的有機液體儲罐,應符合以下規定之一: a)采用液體鑲嵌式密封、機械式鞋形密封、雙封式密封等有效密封方式的浮頂罐; a)采用固定頂罐,應安裝密閉排氣系統,排氣至VOCs廢氣收集處理系統; a)采取氣相平衡系統等其他等效措施。 A.4.2對于真實蒸氣壓大于等于5.2kPa的裝載物料,且單一裝載設施的年裝載總容積超過2500m3;或裝載物料真實蒸氣壓≥27.6kPa,且單一裝載設施的年裝載總容積超過500m3,其裝載設施應配備廢氣收集系統,并排氣至VOCs廢氣收集處理系統或采取氣相平衡系統。
A.5敞開液面VOCs逸散 A.5.1含VOCs廢水和循環冷卻水的集輸系統在安全許可條件下,應采取與環境空氣隔離的措施。 A.5.2檢測含VOCs廢水和循環冷卻水儲存、處理設施敞開液面上方100mm處的VOCs濃度,如大于200µmol/mol,應加蓋密閉,排氣至VOCs廢氣收集處理系統。
A.6廢氣收集處理系統要求 A.6.1廢氣收集系統排風罩(集氣罩)的設置應符合GB/T16758的規定。對于外部罩,在距排風罩開口面*遠的VOCs無組織排放位置(AQ/T4274),按GB/T16758規定的方法測量吸入風速,應保證不低于0.3m/s(行業相關規范有具體規定的,按規定執行)。 A.6.2廢氣收集系統的輸送管道應密閉。在工作狀態下,輸送管道宜保持負壓狀態;若處于正壓狀態,則應按照附錄A3的規定對輸送管道的密封點進行泄漏檢測。 A.6.3企業應對廢氣收集系統、揮發性有機物治理設施做以下記錄,并至少保存2年。記錄包括但不限于以下內容: a)吸附裝置,應每日記錄吸附劑種類、更換/再生周期、更換量; b)燃燒裝置,應每日記錄運行時操作溫度; c)采用其他揮發性有機物污染控制設備,應記錄保養維護事項,并每日記錄主要操作參數; d)應記錄揮發性有機物污染治理設施及排污工藝設施的運轉時間。 A.6.4采用非原位再生吸附處理工藝進行廢氣治理的,應按審定的設計文件要求確定吸附劑的使用量及更換周期,每萬立方米/小時設計風量的吸附劑用量不應小于1立方米,更換周期不應長于1個月。購買吸附劑的相關合同、票據至少保存2年。
A.7其他控制要求 A.7.1實驗室若涉及使用含VOCs的化學品進行實驗,應在通風柜(櫥)中進行,廢氣應排至VOCs廢氣收集處理系統。 A.7.2盛裝VOCs廢料(渣)的容器應密閉。列入《國家危險廢物名錄》的含VOCs的廢料應以密閉容器收集,并按危險廢物進行貯存和處置。 A.7.3VOCs原料、輔料和產品的廢包裝容器應密閉,并按相關固體廢物標準進行貯存和處置。 來自:北京環保局
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